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MARCH 等離子清洗機

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產(chǎn)品簡介

AP-300緊湊型、桌面式配置等離子處理設備AP-300是特別設計的均勻清洗和處理的等離子設備,具有易操作性強、可靠性高、低成本的優(yōu)點

詳細介紹

AP-300 緊湊型、桌面式配置等離子處理設備
 

      AP-300是特別設計的均勻清洗和處理的等離子設備,具有易操作性強、可靠性高、低成本的優(yōu)點。AP-300是獨立的系統(tǒng),需要很小的空間。等離子腔體、控制設備、13.56MHz的等離子發(fā)生器和

自動匹配網(wǎng)絡都安裝在底盤上,一個連鎖的門和面板提供了維護通道。等離子腔體由耐用的高品質(zhì)鋁

做成的,并且?guī)в袖X支架。腔體里有最多達7個可移動的、可調(diào)整的電源極或接地極支架,以適應更

范圍的器件、組件或工裝(Magazines、Trays或Boats)。

清洗、表面活化、改善粘性

       AP-300系統(tǒng)適合多種多樣的等離子清洗、表面活化和改善粘性等應用,倍廣泛應用在半導體器件制造、微電子封裝和組裝、醫(yī)療設備器件和生命科學器件的制造等。AP-300適合多種工藝氣體,例如Ar、O2、H2、He及氟化合物氣體,通過2個(標準配置)氣體質(zhì)量流量控制器控制氣體的標準,系統(tǒng)還可以

選配2個氣體質(zhì)量流量控制器來提高系統(tǒng)的控制性能。

 
半導體和微電子應用舉例:
* 粘片前進行處理,提高芯片附著力;
* 鍵合前進行處理,提高鍵合強度;
* 塑模和封裝前進行處理,減少封裝分層;

* Flip chip采用underfill工藝底部填充前進行處理,可以提高填充速度、減少空洞率、增加填充高度及一

  致性、增加填充物的附著力。

設備功能: 

* 觸摸屏控制及圖形用戶界面,提供實時過程顯示;

* 靈活的支架,具有適應多種器件、組件及工裝的能力;
* 帶有自動匹配網(wǎng)絡的13.56MHz的RF發(fā)生器,保證設備優(yōu)異過程一致性;
* 設備滿足簡便的定期校準需要。


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